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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
ZrO2薄膜 磁控溅射 溅射气压 相结构 O /Zr |
| 资料大小： |
136K |
| 所属学科： |
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| 来源： |
来源网络 |
| 简介： |
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利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜。膜厚60～80nm。研究发现，溅射气压升高，薄膜结晶程度降低，同时存在单斜相和四方相；晶粒尺寸增大；折射率上升；透射率在700~1000nm波段上升。这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份，进而影响其光学性能。 |
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| 上传人： |
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| 上传时间： |
2007-07-17 16:31:22 |
| 下载次数： |
6984 |
| 消耗积分： |
2
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