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通用高分子材料
> 聚合物/氧化石墨烯复合材料熔融加工中的原位还原问题
聚合物/氧化石墨烯复合材料熔融加工中的原位还原问题
聚合物/氧化石墨烯复合材料熔融加工中的原位还原问题
资料类型:
PDF文件
关键词:
聚合物复合材料
氧化石墨烯
熔融加工
原位还原
资料大小:
992K
所属学科:
通用高分子材料
来源:
来源网络
简介:
近年来,氧化石墨烯(GO)还原制备还原氧化石墨烯(RGO)技术的巨大进步,一定程度的解决了石墨烯难以大批量制备及在高分子基体中难以分散的问题,大大促进了石墨烯在聚合物复合材料中的应用。实际上,GO具有超大的比表面和形状比,高强高模,易于修饰等优点,不仅可用作制备石墨烯的前体,其本身也是一种非常优异的增强材料。对于聚合物纳米复合材料而言,能否利用传统的熔融加工技术进行加工和成型,是决定其能否获得产业化应用的重要因素。大量研究表明,GO不仅能在高温下还原,而且在相对温和的条件下也发生一定程度的还原。已有文献报道,在模压等熔融加工过程中,分散于聚合物中的GO或RGO会发生“原位”还原,且还原的难易程度与聚合物种类有关[1]。但是,聚合物基体化学、物理结构上的不同如何影响GO的还原行为,未见系统报道。本工作中,我们选择了与GO之间相互作用不同的三类物质:与GO相互作用很弱的乙烯-辛烯共聚物(POE)、与GO之间能通过π-π相互作用形成较强作用的PS和SEBS(可看成部分PS序列被烯烃取代,与GO作用强于POE而弱于PS)以及与GO之间可通过氢键等形成较强作用的PMMA和乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)(可看作部分VA序列被烯烃取代,与GO作用强于POE而弱于PMMA),研究了GO在各基体中发生还原的难易程度,发现基体与GO之间相互作用越强,分散于其中的GO越易还原。基于这一现象,我们以Rourke[2]的GO模型为基础,提出“如果聚合物能促进吸附在石墨烯表面的含氧残片(OxidativeDebris)脱附,则分散于其中的GO更易还原”这样一种可能的解释。
上传人:
liu
上传时间:
2013-05-29 11:01:31
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